2025年度

前期

薄膜作成技術特論

講義

Thin Film Formation Technology

Z0800001 薄膜作成技術特論 [対面]

鷹野 一朗

2.0単位

火曜5限

八王子

1E-106講義室

A 専攻する研究領域における高度な専門知識を身につけたもの 100%
B 科学技術を運用する能力を身につけたもの　0%
C 主体的に研究に取り組み、社会や職業についての知識や技術者や研究者として必要な倫理観を身につけたもの　0%
D 特定の専門領域における創成能力を身につけたもの　0%

パソコンやスマートフォンなどの小型化において真空技術を用いた薄膜が大きな役割を果たしています。本講義では最先端の工学分野を支える真空技術と薄膜作製技術を学びます。主な内容は，真空工学の基礎，真空蒸着法，スパッタリング法，化学気相法，イオン注入法などで，それらの特徴や作製される薄膜の成長過程について説明します。また、基本的な薄膜の分析技術についても説明します。

物理と化学の基礎知識を必要とします。産業界で使われている真空技術について，自ら調べるなど関心を持って授業に臨んでください。なお、産業界のトピックスの解説により各回の授業は前後することがあります。

e-ラーニング等ICTを活用した自主学習支援

１．薄膜とは？　真空とは？
２．真空を使った種々の薄膜作製法の概要（物理気相成長，化学気相成長）
３．真空の基礎
４．真空の計測方法，各種真空計の原理
５．真空の作り方，各種ポンプによる排気能力
６．真空排気システム，残留ガス分子数と平均自由行程
７．真空蒸着法の原理と基板上への薄膜成長
８．実習：真空蒸着法
９．スパッタリングの原理
10．直流や高周波スパッタリング，各種スパッタリング装置と応用
11．イオン注入法とイオンビーム応用
12．CVD法の原理と各種CVD装置
13．薄膜の評価，薄膜分析法と各種機能評価
14．学習の評価
15．学習の振り返り

授業中に提出するレポート（30％）と期末試験（70％）により評価します。

オンデマンドで総括します。

KU-LMSから授業教材を配信します。

例えば
「薄膜作成の基礎」麻蒔立男著，日刊工業新聞社
「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎」表面技術協会編，コロナ社

KU-LMS上で質問をしてください

真空を利用した薄膜は，光学，半導体，磁気記録，食品など幅広い先端技術を支えています。この授業で学際的な知識を学んでください。

実務家担当科目ではない

電気・電子工学専攻